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大宗特气供气系统介绍

大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大规模集成电路厂（气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太阳能电池生产线（气体种类包括NH3），发光二极管的磊晶工序线（气体种类包括NH3）、5代以上液晶显示器工厂（气体种类包括4、3、NF3）、光纤（气体种类包括SiCl4）、硅材料外延生产线（气体种类包括HCL）等行业。它们的投资规模巨大，采用1先进的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。多数气瓶出口压力1高可达15MPa，即150公斤/cm2，如果发生气瓶口减压装置失灵，就有可能将一些部件激1射出去，其能量对人体或设备都具有致命性的伤害。

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特气系统知识分享：一般混合气体

由两种以上气体混合配制而成的气体,而且主要标出大致浓度,即可满足使用要求,这种气体称为一般混合气体。

对气体分析仪用气体,如含氢10%，其余是氦的混合气以及含甲1烷5%或10%；含氢40%，其余是氮或氦的混合气被用作氢火焰总烃检测仪的燃料气。

在测定放1射性物质时,使用的混合气有下列几种组成:含异丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦为底气。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合气。激光用气含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化学反应、动植物实验室和金属腐蚀等研究用的混合气因关系到公害问题,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氢等都要保持低浓度。

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小流量气体净化系统

高纯供气系统主要应用于钢瓶气、管道气及气体发生器等的高纯连续供气，应用于超微量水、氧分析仪、气相色谱仪、常压离子质谱仪等各类气体分析仪器纯化载气或零点气，也可用于超高纯度气体管道安装施工中的吹扫气体，更可以为半导体工艺设备提供超高纯的工艺气体。特种气体的应用领域主要在集成电路制造、太阳能电池、化合物半导体、液晶显示器、光纤生产四大领域,其中主要应用于半导体集成电路的生产制造。

气体净化系统根据需求采用常温或者高温吸附剂，电化学抛光316L不锈钢管件，出气口配置微米过滤器，其气体纯化指标达到各项杂质含量小于1ppb的世界先进水平。

气体配比仪采用质量流量计，电化学抛光316L不锈钢管件，双卡套或者VCR气体接头。