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大宗特气供气系统介绍

大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大规模集成电路厂（气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太阳能电池生产线（气体种类包括NH3），发光二极管的磊晶工序线（气体种类包括NH3）、5代以上液晶显示器工厂（气体种类包括4、3、NF3）、光纤（气体种类包括SiCl4）、硅材料外延生产线（气体种类包括HCL）等行业。特种气体的应用领域主要在集成电路制造、太阳能电池、化合物半导体、液晶显示器、光纤生产四大领域,其中主要应用于半导体集成电路的生产制造。它们的投资规模巨大，采用1先进的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。

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试验室供气需求

目前大多数试验室中的各种分析仪器如气相色谱仪、气相色谱质谱仪、液相色谱质谱仪、原子吸收分光光度计、原子荧光光度计、等离子发射光谱仪、电感耦合等离子质谱仪等都需要连续使用高纯载气和燃气，因此试验室的安全、连续、稳定运行需要我们考虑如何将这些气体供到各试验室中放置的分析仪器。多种气体在同一个环境下使用，如果有两种会发生燃烧或爆1炸等强烈化学反应的气体同时泄漏，就可能对工作人员以及仪器设备造成伤害。

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试验室集中供气系统的优点

针对过去使用中存在的问题，现代试验室对载气的使用环境进行了改革，即 “集中供气系统”，即将使用气体（以下简称载气）集中贮存，然后通过压差的原理将气体经过金属或其他材质管路送至用气点。其优点主要有以下几点：

1、首先解决气瓶的放置问题。特气系统知识分享：一般混合气体由两种以上气体混合配制而成的气体,而且主要标出大致浓度,即可满足使用要求,这种气体称为一般混合气体。气瓶间的位置如果可能尽量位于与试验室相对独立的房间，如果与试验室在同一大楼内，则气瓶间的位置要尽量位于人1流较少并且独立的房间，这种方式可使气瓶与工作人员及仪器完全隔离，即使有害气体有泄漏，也不会发生直接伤害。

2、其次气体混合的问题。将所有载气气瓶根据气体性质分别集中在一个气瓶间中与助燃气体分开存贮。

3、再次是解决气瓶压力的问题。阀门是管路流体输送系统中控制部件，用来改变通路断面和介质流动方向，具有导流、截止、节流、止回、分流或溢流卸压等功能。每种气体可以将多瓶气体并联然后通过一个出口统一减压后运送气体至使用点。因为气瓶间是相对独立的，整个气路系统压力1大的地方也是气瓶出口处，因此这种方式将气瓶压力可能发生的危险缩小至气瓶间内，可对人体及仪器的伤害可降到1低。