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真空镀膜系统报价诚信企业,北京艾明坷公司
2021-06-18






真空镀膜技术的应用领域

在平板显示器中

所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜,而且,几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜,以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说,没有薄膜技术,就没有平板显示器件。

在太阳能利用方面

当需要有效地利用太阳热能时,就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。由于太阳辐射与热辐射光谱在波段上有差异,因此,为了有效地利用太阳热能,就必须考虑采用具有波长选择特性的吸收面。

理想的选择吸收面,是太阳辐射光谱的波段(可见光波段)吸收率(α)为1,在热辐射波段(红外波段)辐射率(ε)为0。

在防伪技术中

防伪膜种类很多,从使用方法可分为反射式和透射式;从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。

在飞机防护涂层方面

飞机的钛合金紧固件,原来采用电镀方法镀镉。但在镀镉中含有氢,所以在飞行过程中,受到大气、海水的腐蚀,镀层上容易产生“镉脆”,甚至引起“空难”。

1964年,采用离子镀方法在钛合金紧固件上镀铝,解决了飞机零件的“镉脆”问题。在离子镀技术中,由于给工件施加负偏压,可以形成“伪扩散层”、细化膜层组织,因此,可以显著提高膜层的耐腐蚀性能。

在光学仪器中

人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪,以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等,它们都离不开镀膜技术,镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

在信息存储领域中

薄膜材料作为信息记录于存储介质,有其得天独厚的优势:

由于薄膜很薄,可以忽略涡流损耗;磁化反转极为迅速;与膜面平行的双稳态状态容易保持等。

为了更精密地记录与存储信息,必然要采用镀膜技术。

在传感器方面

在传感器中,多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说,极为敏感的半导体材料。此外,其中,大多数利用的是半导体的表面、界面的性质,需要尽量增大其面积,且能工业化、低价格制作,因此,采用薄膜的情况很多。

在集成电路制造中

晶体管路中的保护层(SiO2、Si3N4)、电极管线等,多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见,气相沉积是制备集成电路的核心技术之一。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我们通常所说的漏气;.

2、真空机组的抽气能力不够了,油被污染或氧化了:

3、真空室内太脏放气;

4、真空室内有漏水;

5、真空管道有漏气;.

6、或者是以上几种可能都有。

出现问题首先是要判断,是不是拆卸过东西,是不是漏水?阀门打开了吗?根据现象判断原因,然后再去根据判断找问题,可能会收到事半功倍的效果。

养成良好的卫生习惯

相比以前我们厂的设备是灰尘满面、油渍不堪。再比如工件转架的轴承有些卡,就要更换轴承,而等到它彻底的坏了再换,问题可就大了,可能引起转架电机烧毁等现象。也许很多人都认为,设备只要正常运转就可以了,搞得再干净也是做表面工作。我可是这样认为的,一个人连表面工作都作不来,那真的还有内在、实在的工作吗?当然设备和设备周围的灰尘、油污对设备的本身的影响也是相当之大的。灰尘能产生静电,损坏电子元件;油污能使电线、水管硬化开裂,造成一些意想不到的问题出现。特别我们使

用的真空设备,还有它本身的特殊性。真空设备讲究的是-一个真空清洁度,真空清洁度越差,放气性就越大。这样使设备抽到较高的真空度所需的时间就越长。

或者根本就无法抽到。这样一来就减少我们的产量,二来影响到了我们的产品的质量。




真空镀膜机部件分析

真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异,真空腔的大小也不一样,目前应用1多的有直径1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等,腔体由不锈钢' target=_blank>不锈钢材料制作,要求不生锈、坚实等,真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦。如需了解更多真空镀膜的相关信息,欢迎关注艾明坷网站或拨打图片上的电话询。

辅助抽气系统:排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。此外,虽然QCM在低温下非常稳定,但温度高,它将成为对温度很敏感。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。排气流程为:机械泵先将真空腔抽至小于2、0*10-2PA左右的低真空状态,为扩散泵后继抽真空提供前提,之后当扩散泵抽真空腔的时候,机械泵又配合油扩散泵组成串联,以这样的方式完成抽气动作。


常见的真空镀膜材料


氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3,氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。

其它化合物硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫1化镉CdS等真空镀膜材料。

金属镀膜材料高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。 



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