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薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。低温吸附：指低温表面上的吸附剂吸附气体的作用，由于吸附剂与气体分子之间的相互作用很强，故可达到气相压强比冷凝表面温度下它的饱和蒸汽压还低的水平。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空计的存在，要控制好还是不成问题的。 具体因素也在下面给出。

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镀膜机操作程序

真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。

① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在'关'位置。

② 打开总电源开关，设备送电。

③ 低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。

④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。

⑤ 落下钟罩。

⑥ 启动抽真空机械泵。

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多功能真空镀膜机

真空镀膜机工作时，需要先抽真空，使真空室处于真空状态，再进行镀膜；镀膜完成后，需要向真空室充气。现有技术中，真空镀膜机的充气管道直接与外界连通，容易把外界空气中的灰尘带入真空室，导致镜片上吸附灰尘，造成产品不良真空蒸渡金属薄膜是在高真空条件下，以电阻、高频或电子加热使金属熔融气化，在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜，其中被镀金属材料用的1多的是铝，在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄或镀铝纸，在镀铝薄膜生产过程中对于真空条件是有严格限定的，真空度过高或过低都会影响镀膜的性能，目前，工厂里使用的镀膜机对于真空度的控制并不是很稳定，导致生产过程中产品的性能不够稳定，因此，解决生产过程中镀膜机里的真空度不易控制的问题尤为重要，而且内部镀膜物件的温度高，需要及时降温，提高工作效率。如需了解更多真空镀膜的相关信息，欢迎关注艾明坷网站或拨打图片上的电话询。

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