CT系列镀膜机
CT(Custamued workstation)系列镀膜机系我司非标定制产品,根据您的要求单独设计,满足您的特殊需要。
特点:1、按需开发,量身定制。
2、整机采用柜式结构,密封性能好,防尘防水,安全。
3、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选
4、可集成手套箱系统
5、可集成多种自动化应用
想了解更多产品信息,您可拨打图片上的电话咨询!艾明坷竭诚为您服务!
薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。但(QCM)的准确性是有限的,镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。
2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。此外,其中,大多数利用的是半导体的表面、界面的性质,需要尽量增大其面积,且能工业化、低价格制作,因此,采用薄膜的情况很多。
以上内容由艾明坷为您提供,今天我们来分享的是薄膜均匀性概念的相关内容,希望对您有所帮助!
真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法
制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。真空状态需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。理想的选择吸收面,是太阳辐射光谱的波段(可见光波段)吸收率(α)为1,在热辐射波段(红外波段)辐射率(ε)为0。
本信息由艾明坷为您提供,如果您想了解更多产品信息,您可拨打图片上的电话咨询,艾明坷竭诚为您服务!
您好,欢迎莅临艾明坷,欢迎咨询...