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大宗特气供气系统介绍

大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大规模集成电路厂（气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太阳能电池生产线（气体种类包括NH3），发光二极管的磊晶工序线（气体种类包括NH3）、5代以上液晶显示器工厂（气体种类包括4、3、NF3）、光纤（气体种类包括SiCl4）、硅材料外延生产线（气体种类包括HCL）等行业。④为防止倒流回火应在用气设备的支管上设置阻火器，在排入大气的排气管道上，为防止排气时突遇雷电袭1击阻止火焰蔓延至可燃气体管道引发燃烧爆1炸事故，必须在排气管道上设置阻火器。它们的投资规模巨大，采用1先进的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。

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特气系统知识分享：一般混合气体

由两种以上气体混合配制而成的气体,而且主要标出大致浓度,即可满足使用要求,这种气体称为一般混合气体。

对气体分析仪用气体,如含氢10%，其余是氦的混合气以及含甲1烷5%或10%；含氢40%，其余是氮或氦的混合气被用作氢火焰总烃检测仪的燃料气。

在测定放1射性物质时,使用的混合气有下列几种组成:含异丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦为底气。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合气。激光用气含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化学反应、动植物实验室和金属腐蚀等研究用的混合气因关系到公害问题,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氢等都要保持低浓度。

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试验室供气需求

目前大多数试验室中的各种分析仪器如气相色谱仪、气相色谱质谱仪、液相色谱质谱仪、原子吸收分光光度计、原子荧光光度计、等离子发射光谱仪、电感耦合等离子质谱仪等都需要连续使用高纯载气和燃气，因此试验室的安全、连续、稳定运行需要我们考虑如何将这些气体供到各试验室中放置的分析仪器。气体管路控制系统可以用于管理控制气体供应，包括流量，压力，开关等，同时带有泄漏报警1灯功能，能够有效保护用气安全。

实验室气体管道设计要求

了解实验室设计的都知道：实验室的任何的设计都是有规格要求的，出了这个要求的范围那么实验室的设计就有漏洞，就不合格，就容易发生事故。实验室的气体的排放是非常重要的，如果说实验室气体管道设计不合理，工作人员就容易出事，甚至严重的就会有生命危险。2、特气系统，内向测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s。