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真空镀膜系统公司服务介绍「在线咨询」
2021-06-18






CT系列镀膜机

CT(Custamued workstation)系列镀膜机系我司非标定制产品,根据您的要求单独设计,满足您的特殊需要。

特点:1、按需开发,量身定制。

2、整机采用柜式结构,密封性能好,防尘防水,安全。

3、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选

4、可集成手套箱系统

5、可集成多种自动化应用

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真空镀膜机

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。

艾明坷科技有限公司专业致力于手套箱、溶剂净化等行业技术服务,艾明坷竭诚为您服务!


真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法


制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。真空状态需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。此外,虽然QCM在低温下非常稳定,但温度高,它将成为对温度很敏感。

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