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真空镀膜机

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。机械泵有很多种，常用的有滑阀式（此主要应用于大型设备）、活塞往复式、定片式和旋片式（此目前应用广泛，本文主要介绍）四种类型。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

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蒸发镀膜

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

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镀膜机操作程序

真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。

① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在'关'位置。

② 打开总电源开关，设备送电。

③ 低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。

④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。

⑤ 落下钟罩。

⑥ 启动抽真空机械泵。

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真空镀膜设备真空泵的选择

正确地组合真空泵。在集成电路制造中晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线等，多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。由于真空泵有选择性抽气，因而，有时选用一种泵不能满足抽气要求，需要几种泵组合起来，互相补充才能满足抽气要求。另外，有的真空泵不能在大气压下工作，需要预真空;有的真空泵出口压强低于大气压，需要前级泵，故都需要把泵组合起来使用。

正确地选择真空泵的工作点。真空泵在其工作压强下，应能排走真空设备工艺过程中产生的全部气体量。每种泵都有一定的工作压强范围，如：2BV系列水环真空泵工作压强范围760mmHg~25mmHg(绝压)，在这样宽压强范围内，泵的抽速随压强而变化(详细变化情况参照泵的性能曲线)，其稳定的工作压强范围为760~60mmHg。因而，泵的工作点应该选在这个范围之内较为适宜，而不能让它在25~30mmHg下长期工作。

真空泵排出来的油蒸气对环境的影响如何。如果环境不允许有污染，可以选无油真空泵，或者把油蒸气排到室外。

真空泵的工作压强应该满足真空设备的极限真空及工作压强要求。如：某真空干燥工艺要求10mmHg的工作真空度，选用的真空泵的极限真空度至少要2mmHg，1好能达到1mmHg。通常选择泵的极限真空度要高于真空设备工作真空度半个到一个数量级。

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